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光子設(shè)備被廣泛應(yīng)用于自然科學(xué)中,用于制造,操作和探測(cè)光。在未來(lái),制造先進(jìn)的光子設(shè)備將是一種挑戰(zhàn),并需要靈活性和可調(diào)諧性。因?yàn)樗鼈冃枰冗M(jìn)的三維光刻技術(shù), 制造這些設(shè)備并非易事。激光直寫(xiě)技術(shù)(DLW)是一種有趣的方式,它的目標(biāo)是運(yùn)用液態(tài)晶體光刻膠作為感光材料。
在這篇博客中, 我們將描述用于生產(chǎn)人造橡膠光學(xué)可調(diào)諧光子設(shè)備的光刻膠是如何進(jìn)行特殊設(shè)計(jì)和測(cè)試的,以及如何用掃描電子顯微鏡(SEM)來(lái)幫助設(shè)計(jì)改進(jìn)過(guò)程。
圖1: 激光直寫(xiě)流程(DWL): i) 光束聚焦,ii) 激光書(shū)寫(xiě),iii) 開(kāi)發(fā)和iv) 完成結(jié)構(gòu) (A. Selimis et al, Microelectronic Engineering, 132 (2015), 83-89)。
圖2: 左邊的SEM顯微圖和線條放大的圖像,是通過(guò)不同的激光功率和書(shū)寫(xiě)速度獲得的。
圖3: 使用不同的光功率和不同光刻膠(a – c)、 特定結(jié)構(gòu)放大圖(d和e)的掃描電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)圖案,并放大圖像。標(biāo)尺為10µm。
圖4:圓柱形結(jié)構(gòu)的SEM圖像,用于研究光刻膠的光響應(yīng)。標(biāo)尺寸為 10µm。
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