光學(xué)顯微鏡與掃描電鏡的區(qū)別
不同的成像原理:光學(xué)顯微鏡利用幾何光學(xué)成像原理獲取圖像,電子顯微鏡利用高能電子束轟擊樣品表面,激發(fā)樣品表面的各種物理信號,然后利用不同的信號探測器接收物理信號并轉(zhuǎn)換成圖像信息。
成像原理不同:光學(xué)顯微鏡利用幾何光學(xué)成像原理進(jìn)行成像,電子顯微鏡利用高能量電子轟擊地球,激發(fā)出地面的各種物理信號,再利用不同的信號轉(zhuǎn)化成圖像接收信號。
分辨率不同:由于光的干涉和衍射,光學(xué)顯微鏡的分辨率被限制在0.2-0.5um之間。由于以電子束為光源,電子顯微鏡的分辨率可達(dá)1-3nm,因此光學(xué)顯微鏡觀察屬于微米級分析,電子顯微鏡微觀結(jié)構(gòu)觀察屬于納米級分析。
電子顯微鏡光譜吸收光譜作為光源,其分辨率可達(dá)到 1-3nm 之間,因此光學(xué)顯微鏡光譜儀光譜儀采用不同的分辨率:光學(xué)顯微鏡光譜儀光學(xué)的干涉與影響作用,可能會(huì)影響光學(xué)顯微鏡。組織的觀察屬于微米級分析,電子顯微鏡組織屬于納米級。
深度不同:一般光學(xué)顯微鏡的深度在2-3um之間,對樣品表面光滑度要求高,制樣過程相對復(fù)雜。SEM深度可達(dá)數(shù)毫米,因此對樣品表面的光滑程度沒有任何要求,制樣相對簡單,甚至有些樣品幾乎不需要制樣。盡管立體顯微鏡具有很大的深度,但其分辨率卻很低。
深景不同:一般光學(xué)顯微鏡的景深在2-3毫米之間,因此對樣品的高度要求非常高,所以制樣過程相對比較復(fù)雜。掃描電鏡的景深則可長達(dá)幾個(gè)毫米,因此對樣品而言地面的精確幾何沒有任何要求,樣品制作比較簡單,*不需要制樣。
我們的光學(xué)電子顯微鏡是飛納掃描電鏡制造商荷蘭 Phenom World 公司與熒光顯微鏡制造商荷蘭 Delmic 于 2015 年聯(lián)合推出的*款將熒光顯微鏡和掃描電鏡高度集成在一起的設(shè)備。2015 年,德飛熒光掃描電鏡一體機(jī) Delphi正式進(jìn)入中國市場。
光學(xué)電子顯微鏡是世界上采用 Automatic Overlap (自動(dòng)交疊) 技術(shù)的設(shè)備,簡單的說,。借助該設(shè)備,用戶可把光學(xué)顯微鏡所包含的豐富信息和掃描電鏡所*的超高分辨率*結(jié)合在一起,觀察研究樣品納米尺度范圍的動(dòng)態(tài)過程,精確定位細(xì)胞和有機(jī)體中所發(fā)生的特定事件。通過在熒光圖像中疊加掃描電鏡圖像,實(shí)現(xiàn)在一張圖像中同時(shí)得到樣品精細(xì)結(jié)構(gòu)和功能物質(zhì)的信息。